亞微米粒徑電位檢測儀具有二種測試功能。*，用于測定各種膠體分散相表面電動電位（Zata電拉）和微粒帶電極性，在現(xiàn)代科研工作、工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)以及醫(yī)學(xué)、生物學(xué)領(lǐng)域中測定電動電位的值，對研究了解分散相表面特性和微粒的分散聚團(tuán)特性等均具有十分重要的意義。第二，可以測定各種粉體或膠體的粒徑分布，并將測定結(jié)果、粒徑百分含量數(shù)、粒徑分布曲線、累積曲線、中徑等參數(shù)自動打印輸出，可廣泛應(yīng)用于工業(yè)、農(nóng)業(yè)和科學(xué)實驗上，在造紙、食品、建筑等行業(yè)作用尤為顯著。

   亞微米粒徑電位檢測儀由顯微光系統(tǒng)、攝像監(jiān)視系統(tǒng)、電泳槽和粒徑測定器以及電子線路控制、打印輸出等部件組成。亞微米粒徑電位檢測儀結(jié)合了動態(tài)光散射（DLS）和電泳光散射（ELS）的技術(shù)，能同時實現(xiàn)檢測粒徑和Zeta電位的功能，并使用大功率的He-Ne激光光源，為檢測提供了更高的度，真正做到直接檢測而無需校正，并獲得更高的分辨率及重現(xiàn)性。

   亞微米粒徑電位檢測儀的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征。懸浮在溶液中的顆粒的布朗運動造成散射光光強(qiáng)的波動。  分析光強(qiáng)的波動得到顆粒的布朗運動速度再通過斯托克斯-愛因斯坦方程得到顆粒的粒度。亞微米粒徑電位檢測儀使用電泳光散射（ELS）技術(shù)通過測量帶點粒子在外加電場中的移動速度即電泳遷移率、推算出Zeta電位實現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位實現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位測定的同機(jī)操作。

   亞微米粒徑電位檢測儀將初始濃度較高的樣本自動稀釋至可檢測的的濃度可稀釋初始固含量為50%的原始樣品本模塊收保護(hù)其可免除人工稀釋樣品帶來的外界環(huán)境的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差此技術(shù)被用于批量進(jìn)樣和在線檢測的過程中。亞微米粒徑電位檢測儀使用高精度的步進(jìn)電機(jī)和針孔光纖技術(shù)可對散射光的接收角度進(jìn)行調(diào)整可為微粒粒徑分布提供可高分辨率的多角度檢測。對高濃度樣品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒徑提供了提供15至度之間不同角度上散射光的采集和檢測。

   亞微米粒徑電位檢測儀能實現(xiàn)多76個連續(xù)樣本的分析而無需操作人員的干預(yù)。因此它是一個非常好的質(zhì)量控制工具能增大樣品的處理量。大大節(jié)省了寶貴的時間，適用于檢測懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。磨料既有天然的也有合成的用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實現(xiàn)對硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

  亞微米粒徑電位檢測儀是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。亞微米粒徑電位檢測儀拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計對晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過程的順利進(jìn)行。